品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
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價格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子 |
kSA 400 RHEED分析系統(tǒng),適合各種RHEED系統(tǒng)和薄膜沉積系統(tǒng)(如:脈沖激光沉積設(shè)備PLD,濺射系統(tǒng)Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機化學氣象沉積MOCVD等)!目前第四代系統(tǒng)結(jié)合新的硬件和軟件,為客戶提供豐富的RHEED分析信息。
kSA 400 RHEED分析系統(tǒng) 超過500個用戶,國內(nèi)如南京大學、中科院半導體所、電子部11所、中國科技大學、復旦大學、上海技術(shù)物理研究所等;
技術(shù)參數(shù):
• CCD系統(tǒng):高速、高分辨和高靈敏度三種可選
• 光學系統(tǒng):RHEED定量分析及成像分析
• 標準接口法蘭
主要特點:
• 圖像分析:單一圖像分析(靜態(tài)分析)模式,用戶選擇多圖像模式,聚焦模式,掃描模式,錄像模式,交互圖像疊加模式,2D和3D圖像分析;
• 實時衍射條紋演化監(jiān)控拍攝;
• 實時薄膜沉積速率測量;
• 原位表面診斷分析
• 軟件分析功能
• RHEED振蕩追蹤檢測
• 可擴展:Phase Locked Epitaxy (PLE), LEED, Auger/XPS,電子槍控制和搖擺曲線掃描;
專業(yè)的RHEED分析系統(tǒng)(kSA 400 Analytical RHEED System),適合各種RHEED系統(tǒng)和薄膜沉積系統(tǒng)(如:脈沖激光沉積設(shè)備PLD,濺射系統(tǒng)Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機化學氣象沉積MOCVD等)!目前第四代系統(tǒng)結(jié)合新的硬件和功能強大的軟件為客戶提供廣泛的RHEED分析信息。kSA 400 RHEED分析系統(tǒng),適合各種RHEED系統(tǒng)和薄膜沉積系統(tǒng)(如:脈沖激光沉積設(shè)備PLD,濺射系統(tǒng)Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機化學氣象沉積MOCVD等)!目前第四代系統(tǒng)結(jié)合新的硬件和軟件,為客戶提供豐富的RHEED分析信息。
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